DOI:

https://doi.org/10.14483/22484728.12790

Publicado:

2017-06-28

Número:

Vol. 11 Núm. 1 (2017)

Sección:

Visión de Caso

Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja

Stress field analysis using visible and infrared photoelasticity

Autores/as

  • Hermes A. Fandiño Toro
  • Juan C. Briñez de León
  • Alejandro Restrepo Martínez
  • John W. Branch Bedoya

Palabras clave:

Campos de esfuerzos, concentración de esfuerzos, descriptores de textura, fotoelasticidad digital, infrarrojo lejano (es).

Palabras clave:

Stress field, stress concentration, texture descriptors, digital photoelasticity, far infrared (en).

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Resumen (es)

Análisis de campos de esfuerzos en imágenes de fotoelasticidad son llevados a cabo mediante descriptores de textura en este artículo. En este caso, los descriptores considerados permiten identificar zonas con altas concentraciones de esfuerzo, incluso en casos con pérdida de contraste, los cuales son por lo general atribuidos a la baja resolución espacial de las franjas. De manera adicional, en este trabajo se analiza la variación en la densidad de franjas en términos de la longitud de onda. Esto último se hace extendiendo la generación de imágenes de fotoelasticidad en el infrarrojo lejano.

Resumen (en)

In this paper, stress fields analysis in photoelasticity digital images is carried out by using texture descriptors. In this case, such descriptors can identify zones with high stress concentration, even for cases with low spatial resolution in fringe patterns. In addition, this paper analyzes the variation that those fringes experience in function to wavelength. For this process, generating the photoelasticity images is extended to the far infrared.

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Cómo citar

APA

Fandiño Toro, H. A., Briñez de León, J. C., Restrepo Martínez, A., y Branch Bedoya, J. W. (2017). Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja. Visión electrónica, 11(1), 89–98. https://doi.org/10.14483/22484728.12790

ACM

[1]
Fandiño Toro, H.A. et al. 2017. Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja. Visión electrónica. 11, 1 (jun. 2017), 89–98. DOI:https://doi.org/10.14483/22484728.12790.

ACS

(1)
Fandiño Toro, H. A.; Briñez de León, J. C.; Restrepo Martínez, A.; Branch Bedoya, J. W. Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja. Vis. Electron. 2017, 11, 89-98.

ABNT

FANDIÑO TORO, Hermes A.; BRIÑEZ DE LEÓN, Juan C.; RESTREPO MARTÍNEZ, Alejandro; BRANCH BEDOYA, John W. Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja. Visión electrónica, [S. l.], v. 11, n. 1, p. 89–98, 2017. DOI: 10.14483/22484728.12790. Disponível em: https://revistas.udistrital.edu.co/index.php/visele/article/view/12790. Acesso em: 18 abr. 2024.

Chicago

Fandiño Toro, Hermes A., Juan C. Briñez de León, Alejandro Restrepo Martínez, y John W. Branch Bedoya. 2017. «Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja». Visión electrónica 11 (1):89-98. https://doi.org/10.14483/22484728.12790.

Harvard

Fandiño Toro, H. A. (2017) «Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja», Visión electrónica, 11(1), pp. 89–98. doi: 10.14483/22484728.12790.

IEEE

[1]
H. A. Fandiño Toro, J. C. Briñez de León, A. Restrepo Martínez, y J. W. Branch Bedoya, «Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja», Vis. Electron., vol. 11, n.º 1, pp. 89–98, jun. 2017.

MLA

Fandiño Toro, Hermes A., et al. «Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja». Visión electrónica, vol. 11, n.º 1, junio de 2017, pp. 89-98, doi:10.14483/22484728.12790.

Turabian

Fandiño Toro, Hermes A., Juan C. Briñez de León, Alejandro Restrepo Martínez, y John W. Branch Bedoya. «Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja». Visión electrónica 11, no. 1 (junio 28, 2017): 89–98. Accedido abril 18, 2024. https://revistas.udistrital.edu.co/index.php/visele/article/view/12790.

Vancouver

1.
Fandiño Toro HA, Briñez de León JC, Restrepo Martínez A, Branch Bedoya JW. Análisis de campos de esfuerzos utilizando fotoelasticidad visible e infrarroja. Vis. Electron. [Internet]. 28 de junio de 2017 [citado 18 de abril de 2024];11(1):89-98. Disponible en: https://revistas.udistrital.edu.co/index.php/visele/article/view/12790

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